時間：2021-10-10 22:20:02
1、这种变异无法避免而且在深亚微米领域，受限于光刻分辨率；氧化层腐蚀造成厚度的改变，因化学机械抛光铜金属线使铜金属层所造成的不平坦碟型缺陷等种种因素变得更加严重。
2、为了获得高分辨率压印图形，为压印光刻机设计了一个精密定位工作台。
3、硝基二氢苊的光氧化作用在无显影气相光刻中起着重要作用。
4、尼康和ASML在高端光刻机领域是一对死对头，不过两家公司的EUV战略有着显著的不同之处。
5、 针对光刻机工作台精密同步运动的需求，提出了一种适用于多轴精密同步运动控制的并行计算架构。
6、为了提高在激光直写设备中光刻系统的写入精度，对光探头调焦系统进行了研究。
7、最终通过yield的比较说明抗反射层在现代光刻工艺中的作用.
8、用熔融缩聚法含成的聚酯型光刻胶有较宽的分子量分布。
9、罗杰斯博士介绍说，他们先使用标准光刻技术将薄型太阳能电池印制在半导体晶片上，然后再用软橡皮图章将硅电池转而印制到另一种物质表面上。
10、但现在，需要“以良品率为中心的DFM”，存眷工艺转变和光刻。
11、光刻胶的旋涂与烘烤，薄膜材料制备。
12、 罗杰斯博士介绍说，他们先使用标准光刻技术将薄型太阳能电池印制在半导体晶片上，然后再用软橡皮图章将硅电池转而印制到另一种物质表面上。
13、 因此目前电子束光刻设备主要的用途是用于刻制掩膜板，许多人甚至认为电子束光刻技术的产出量永远也无法满足芯片量产的需求。
14、 光刻胶的旋涂与烘烤，薄膜材料制备。
15、针对光刻机工作台精密同步运动的需求，提出了一种适用于多轴精密同步运动控制的并行计算架构。
16、根据对有机引发剂条件下的光刻胶过程的分析得出了纳米级实体图。
17、另外，尼康光刻机业务也开始扭亏为盈。
18、 荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一，通过不断的技术创新，在全球光刻机市场上居于领先地位。
19、现在的纳米尺度的技术能够也确实包括了从光刻、光学到测量学的每一个领域，包括材料科学、半导体制造，甚至包括了生物技术。
20、通过对光刻工艺过程的研究，可为较好地控制正性光刻胶面形，制作微机械、微光学器件提供了参考依据，对微浮雕结构的深刻蚀具有重要的指导意义。
21、 现在的纳米尺度的技术能够也确实包括了从光刻、光学到测量学的每一个领域，包括材料科学、半导体制造，甚至包括了生物技术。
22、 吸盘，光刻投影设备，制造吸盘的方法和器件制造方法。
23、因此目前电子束光刻设备主要的用途是用于刻制掩膜板，许多人甚至认为电子束光刻技术的产出量永远也无法满足芯片量产的需求。
24、 因此,在实际应用中,它可以提供具有合适可见度的强光量子光刻术.
25、因此,在实际应用中,它可以提供具有合适可见度的强光量子光刻术.
26、介绍了采用光刻离子交换工艺制作平面交叉型微透镜阵列的方法。
27、实验发现，与激光直写曝光相比，光刻曝光更有利于胶上图形的陡直度。
28、本文的模拟结果不仅能为高能电子束光刻工艺优化曝光条件、降低邻近效应提供理论指导，而且能为进一步的邻近效应的校正提供更精确的数据。
29、荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一，通过不断的技术创新，在全球光刻机市场上居于领先地位。
30、 残留表面电位会在后续观测中引入误差，影响临界尺度扫描电镜法的测量精度，并在电子束光刻中造成位置误差。
31、水分散型感光胶乳适用于印花工业的金属网上，作为光刻胶之用。
32、 在同步辐射X射线光刻中，由于掩模的初始张应力和掩膜的非均匀受热将使掩模产生热畸变。
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